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专利名称：场发射光源装置专利类型：发明专利发明人：杨宗翰,罗吉宗申请号：CN201110032840.2申请日：20110126公开号：CN102569005A公开日：20120711
摘要：本发明是有关于一种场发射光源装置，包括：一底基板；阴极，是设置于底基板上；至少一发射块，是设置于阴极上且与阴极电性连接；一绝缘层，是设置于阴极上，其中该绝缘层具有至少一开口，遂使发射块凸出该开口；阳极，是设置于绝缘层上，并与阴极排列成m×n矩阵(matrix)，且阳极个别具有对应于发射块的撞击面；以及一发光层，是设置于该撞击面上。据此，本发明可提高场发射光源装置的光利用率。
申请人：大同股份有限公司
地址：中国台北市中山区中山北路3段22号
国籍：CN
代理机构：中科专利商标代理有限责任公司
代理人：梁爱荣
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